2006年11月10日
パルスジェット流水式高周波超音波洗浄機
半導体、液晶洗浄工程用パルスジェット流水式高周波超音波洗浄機ラインタイプ380mm
流水にメガヘルツの高周波を加えることで、加速された水の粒子がサブミクロンの微粒子を洗浄除去します。
CMP研磨後洗浄、ハードディスク・シリコンウエハー・ガリウムヒ素鏡面研磨後洗浄、蒸着前洗浄に最適です。
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半導体、液晶洗浄工程用パルスジェット流水式高周波超音波洗浄機ラインタイプ380mm
流水にメガヘルツの高周波を加えることで、加速された水の粒子がサブミクロンの微粒子を洗浄除去します。
CMP研磨後洗浄、ハードディスク・シリコンウエハー・ガリウムヒ素鏡面研磨後洗浄、蒸着前洗浄に最適です。
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